Moni-Arc Ion -ohutkalvolaitteet

Moni-Arc Ion -ohutkalvolaitteet

Tiedot
Tämä monikaari-ionipinnoitusjärjestelmä hyödyntää katodikaarihaihdutusta tiheiden, erittäin{1}}tarttuvien kovien pinnoitteiden ja toimivien ohuiden kalvojen kerrostamiseen. Iskemällä korkean-virran, matalajännitteisen-kaaren kiinteään katodikohteisiin, materiaali höyrystyy ja ionisoituu välittömästi korkeassa{5}}tyhjiöympäristössä. Yhdessä reaktiivisten kaasujen (N2, O2 tai C2H2) kanssa järjestelmä syntetisoi stoikiometrisiä yhdistepinnoitteita suoraan metallisille tai ei-{11}}metallisille substraateille. Jatkuvaa teollista valmistusta varten suunniteltu arkkitehtuuri varmistaa vakaan kaaren etenemisen, tarkan stoikiometrisen ohjauksen ja toistettavan erästä -eriin kalvon suorituskyvyn.
Luokituksen
Moni-Arc Ion -ohutkalvolaitteet
 
Lähetä kysely
Kuvaus
Tekniset parametrit

Tämä monikaari-ionipinnoitusjärjestelmä hyödyntää katodikaarihaihdutusta tiheiden, erittäin{1}}tarttuvien kovien pinnoitteiden ja toimivien ohuiden kalvojen kerrostamiseen. Iskemällä korkean-virran, matalajännitteisen-kaaren kiinteään katodikohteisiin, materiaali höyrystyy ja ionisoituu välittömästi korkeassa{5}}tyhjiöympäristössä. Yhdessä reaktiivisten kaasujen (N2, O2 tai C2H2) kanssa järjestelmä syntetisoi stoikiometrisiä yhdistepinnoitteita suoraan metallisille tai ei-{11}}metallisille substraateille. Jatkuvaa teollista valmistusta varten suunniteltu arkkitehtuuri varmistaa vakaan kaaren etenemisen, tarkan stoikiometrisen ohjauksen ja toistettavan erästä -eriin kalvon suorituskyvyn.

 

Tekniset tiedot

 

Parametri

Tekniset tiedot Alue / arvo

Kammion mitat

Mukautetut halkaisijat Phi 800 mm:stä Phi 2000 mm:iin (pysty- tai vaaka-asettelu)

Äärimmäinen tyhjiöpaine

<= 5.0 x 10^-3 Pa (via Roots & Molecular/Diffusion pump combination)

Pumppu-seisonta-aika

Ilmanpaine 6,0 x 10^-2 Pa tuumaa<= 15 minutes (empty, clean, dry chamber)

Katodikaaren lähteet

4-16 suorakulmaista tai pyöreää suodatettua/suodattamatonta kaarilähdettä

Bias-virtalähde

Pulssin esijännite (0 - -1000 V säädettävissä, taajuus 10 - 100 kHz)

Alustan kierto

Planeetan pyörimismekanismi, jossa on nopeussäätöinen käyttö ja itsenäinen lämmitys

Lämmitysjärjestelmä

Ruostumaton teräs säteilylämmitin array; maksimilämpötila 600 astetta C (+/- 5 asteen tasaisuus)

Ohjausjärjestelmä

PLC + teollisuus-PC; automaattinen reseptin suoritus manuaalisella ohituksella

Yhdistetty kuorma

80 kW - 250 kW (riippuen kammion tilavuudesta ja lähteiden määrästä)

 

Tärkeimmät ominaisuudet


Suodatettu katodikaaritekniikka:Varustettu magneettikentän ohjauksella ja makro-hiukkasten (pisaroiden) suodatuskanavilla, jotka poistavat pintavirheet ja antavat erittäin-pehmeän pinnan tarkkuuskomponenteille.


Suljetun -silmukan reaktiivisen kaasun ohjaus:Kokonaispaineeseen ja optiseen emissiopalautteeseen sidotut massavirtausohjaimet (MFC) ylläpitävät vakaat osapaineet reaktiivisen yhdisteen synteesin aikana.


Moniakselinen planetaarinen kiinnityslaite:{0}}Riippumattomat pyörimis- ja kierrosakselit varmistavat tasaisen ionipommituksen ja pinnoitteen paksuuden jakautumisen monimutkaisissa kolmiulotteisissa geometrioissa.


Modulaarinen tyhjiöputkisto:ISO-standardin mukaiset elektro-kiillotetut ruostumattomasta teräksestä valmistetut jakoputket minimoivat kaasun muodostumisen ja yksinkertaistavat rutiinihuoltovälejä.


Erätietojen jäljitettävyys:Automaattinen kammion paineen, substraatin esijännitteen, kaarivirran ja kaasun virtausnopeuksien kirjaaminen kattavaa laaduntarkastusta varten.

 

Tyhjiöjärjestelmän kokoonpano


Tyhjiöali{0}}järjestelmä on suunniteltu nopeaan kiertoon ja prosessin sivutuotteiden tehokkaaseen käsittelyyn:


Roughing vaihe:Pyörivät siipipumput tai kuivaruuvipumput yhdistettynä Roots-puhaltimiin öljyttömän-karkean tyhjiön synnyttämiseksi.


Korkea tyhjiövaihe:Diffuusiopumput, joissa on nestemäisen typen kylmäluukut tai korkean -suorituskyvyn turbo-molekyylipumput (TMP), jotka on valittu puhdastilavaatimusten ja syklin aikatavoitteiden perusteella.


Venttiilit ja mittarit:Pneumaattiset sulkuventtiilit ja erittäin{0}}luotettavat eristysventtiilit. Täyden -alueen alipainemittaukset käyttämällä Pirani- ja Hot Cathode -ionisaatiomittareita, jotka on integroitu lukitusturva-PLC:hen.

 

Haihtumismateriaalien ja alustan yhteensopivuus


Haihdutuskatodit
Puhtaat metallit:
Ti, Cr, Al, Zr, Cu, TiAl seokset, ruostumaton teräs.


Seokset/yhdisteet:Räätälöidyt sintratut kohteet, jotka on kehitetty erityistä kovuutta, kitkakertoimia ja hapettumisenkestävyyttä varten.


Alustan materiaalit
Työkaluteräkset:
Pika-nopeutettu teräs (HSS), volframikarbiditeräkset, kylmä-/kuumatyöstöteräkset.


Tekniset metallit:Titaaniseokset, ruostumaton rakenneteräs, alumiini (kunnollista esikäsittelyä -käyttäen).


Tekninen keramiikka:Valikoitu teollinen keramiikka, joka vaatii johtavan rajapinnan valmistelua.

 

Sovellukset ja erikoiskäyttötapaukset


Leikkaus- ja muotoilutyökalut
Pinnoitetyypit:
TiN, TiAlN, AlTiN, CrN.


Vaikutus suorituskykyyn:Lisää merkittävästi pinnan kovuutta (jopa 3000+ HV), alentaa kitkakertoimia ja vastustaa lämpöhapetusta. Todistettu pidentävän porien, jyrsintäjyrsimien, keittolevyjyrsimien ja meistosuutinten käyttöikää nopeissa -koneistusolosuhteissa.


Autojen komponentit
Sovellukset:
Männänrenkaat, hanat, polttoaineen ruiskutusosat ja koristeelliset tai toiminnalliset ulkoverhoilulaitteistot, jotka vaativat kulumisen ja korroosionkestävyyden.


Lääketieteelliset instrumentit
Sovellukset:
Bioyhteensopivat TiN- ja TiCN-pinnoitteet kirurgisissa skalpelleissa, luuruuveissa ja hammasimplanteissa parantavat pinnan passivointia ja kulutuskestävyyttä.

 

Räätälöinti


Järjestelmät on suunniteltu vastaamaan tiettyjä valmistusjalanjälkiä ja prosessiparametreja:


Kammion koko:Mukautetut sisähalkaisijat ja -korkeudet, jotka on räätälöity erän enimmäismittojen ja kiinnityspainojen mukaan.


Lähteen kokoonpano:Valokaarilähteiden ja tasomaisten sputterointikatodien hybridiyhdistelmät monikerros- ja nanokomposiittiarkkitehtuureihin.


Automaatiotaso:Puoliautomatisoidut itsenäiset solut tai täysin integroidut tuotantolinjat, jotka ovat yhteensopivia robottien lastausjärjestelmien kanssa.

 

Laadunvalvonta


Heliumvuodon testaus:Jokaiselle tyhjiökammiolle tehdään tiukka massaspektrometrivuototestaus ennen tehtaan julkaisua (vuotonopeus<= 1.0 x 10^-9 Pa*m^3/s).


Sähköturvallisuus:Ohjauskaapit on rakennettu CE/UL-standardien mukaisesti täysin lukituilla turvapiireillä.


Tehdashyväksyntätestaus (FAT):Toimitusta edeltävät testit, joilla varmistetaan lopullinen paine, lämmittimen lämpötilan tasaisuus ja jatkuva valokaaren sytytysvakaus jatkuvan 24 tunnin jakson aikana.

 

Asennus ja tekninen tuki


Sivuston valmisteluohjeet:Kattava apuohjelman asetteludokumentaatio, joka kattaa jäähdytysveden virtausnopeuden/paineen, paineilman, poistoilmanvaihdon ja tehohäviöt.


Käyttöönotto sivustolla-:Kokeneet prosessi- ja mekaaniset insinöörit lähetettiin rakenteiden kohdistusta, tyhjiövuodon todentamista, sähköliittämistä-ja perusreseptin vaihtoa varten.


Kuljettajan koulutus:Käytännön-koulutusta, joka kattaa rutiinihuollon, katodikohteen vaihdon ja PLC-vianmäärityksen.


Etädiagnostiikka:Suojattu VPN-moduulin integrointi reaaliaikaista-ohjelmistopäivitystä, parametrien analysointia ja nopeaa-vastausta varten.

 

FAQ

 

K: Mikä on monikaari-ionipinnoituksen ensisijainen etu verrattuna tavanomaiseen magnetronisputterointiin?

V: Katodikaarihaihdutus tarjoaa korkean haihdutetun materiaalin ionisaationopeuden (tyypillisesti 30–80 %), mikä johtaa poikkeukselliseen kalvon tarttumiseen ja korkeisiin kerrostumisnopeuksiin. Se soveltuu ihanteellisesti paksuille, koville keraamisille kulutusta kestäville-pinnoitteille.

K: Kuinka hallitset valokaaren haihtumisen aiheuttamaa makro{0}}hiukkasongelmaa?

V: Käytämme optimoitua magneettikenttäohjausta siirtämään kaaripistettä nopeasti kohdepinnan poikki, yhdistettynä valinnaisiin Filtered Cathode Arc (FCA) -ohjauskanaviin, jotka ohjaavat magneettisesti ionisoitua höyryä ja vangitsevat makro{0}}hiukkasia.

K: Mitkä ovat tämän laitteen asennuksen tilat?

A: Requirements typically include a stable 3-phase power supply, a closed-loop chilled water system (~0.2 to 0.3 MPa, 15 to 20 deg C), compressed air (>= 0.6 MPa) pneumaattisille venttiileille ja ilmanvaihto prosessipoistolle. Erityiset piirustuspaketit toimitetaan tilausvahvistuksen yhteydessä.

K: Voiko tämä järjestelmä käyttää automatisoituja monikerroksisia{0}} tai gradienttipinnoitteita?

V: Kyllä. PLC ja reseptien hallintaohjelmisto mahdollistavat kaasuvirtojen, bias-jännitteiden automaattisen sekvensoinnin ja moni-katodin kiertoajoituksen monimutkaisten moni-kerrosarkkitehtuurien tai gradienttisiirtymäkerrosten tallentamiseksi.

 

Suositut Tagit: multi-arc ion ohutkalvolaitteet, Kiina multi-arc ion ohutkalvolaitteiden valmistajat, toimittajat, tehdas

Lähetä kysely
Ota yhteyttäjos sinulla on kysyttävää

Voit ottaa meihin yhteyttä joko puhelimitse, sähköpostitse tai alla olevalla verkkolomakkeella. Asiantuntijamme ottaa sinuun yhteyttä pian.

Ota yhteyttä nyt!