PVD Hybrid Thin Film Deposition System yhdistää lämpöhaihdutuksen, elektronisuihkun (e-säteen) haihdutuksen ja RF/DC-magnetroniputustuksen yhteen tyhjiöarkkitehtuuriin. Tämä alusta mahdollistaa metallien, metalliseosten ja eristeiden peräkkäisen tai yhteis{2}}laskennan tyhjiötä rikkomatta, mikä estää rajapintojen hapettumisen. T&K-laitoksia ja pilottituotantolinjoja varten suunniteltu järjestelmä käsittelee jopa 6 tuuman substraatteja automatisoidulla moniakselin{5}}kierrolla.
Tekniset tiedot
|
Parametri |
Erittely |
|
Lopullinen peruspaine |
< 5.0 x 10^-6 Pa (baked out) |
|
Pumppaus-pysähdysaika |
< 15 minutes to 1.0 x 10^-3 Pa |
|
Alustan koko |
Jopa 6 tuuman halkaisijaltaan vohveli / mukautetut pidikkeet |
|
Kalvon paksuuden tasaisuus |
<= +/- 1% across a 4-inch substrate (planetary rotation) |
|
Laskeumalähteet |
Jopa 3 e-sädetaskua, 2 lämpövenettä, 4 magnetronikatodia |
|
Alustan lämpötila |
Ympäristön lämpötila 800 asteeseen (PID-ohjattu) |
|
Kammion materiaali |
304L / 316L sähkökiillotettua ruostumatonta terästä |
|
Turvallisuuden noudattaminen |
CE-yhteensopiva; UL / NFPA-standardien mukaiset komponentit pyynnöstä |
Tärkeimmät ominaisuudet
Modulaariset pistorasiat:Vaihdettavat lähdelaipat mahdollistavat nopean uudelleenkonfiguroinnin sputterointikatodien ja lämpö-/e{0}}-sädehöyrystimien välillä.
Eristysarkkitehtuuri:Pneumaattiset sulkuventtiilit eristävät prosessikammion korkeasta{0}}tyhjiöpinosta minimoidakseen hiukkasten muodostumisen.
In{0}}In Situ -valvonta:Erilliset portit kvartsikidemikrovaaka-antureille (QCM) ja optiselle emissiospektroskopialle (OES).
Lukittu turva-PLC:Laitteiston lukitukset estävät lähteen aktivoitumisen korkean paineen, jäähdytysvesihäiriön tai turvallisuusrikkomusten aikana.
Tyhjiöjärjestelmän kokoonpano
Rouhintapumppu:Kuivarullapumppu (30 m^3/h) hiilivetyjen takaisinvirtauksen eliminoimiseksi.
Korkeatyhjiöpumppu:Magneettisesti levitoitu turbomolekyylipumppu (1200 l/s N2:lle), jota tukee kryogeeninen ansa.
Mittarit:Yhdistetyt Pirani- ja Cold Cathode -anturit, jotka kattavat ilmakehän 10^-7 Pa:iin.
Leivonta:Patruunalämmittimen vaipat ulkoisilla eristyspeitteillä, joiden lämpötila on jopa 150 astetta.
Materiaalien ja alustan yhteensopivuus
Höyrystysmateriaalit:
Metallit:Au, Ag, Al, Ti, Cr, Pt, Cu, Ni
Dielektriset ja oksidit: SiO2, TiO2, Al2O3, ITO
Puolijohteet:Si, Ge
Substraattityypit:Yksi{0}}kiteiset piikiekot, lasi, kvartsi, polyimidikalvot ja metallikalvot.
Sovellukset
Optoelektroniset laitteet:Läpinäkyvät johtavat elektrodit (ITO) ja monikerroksiset{0}}heijastimet OLED-laitteille ja aurinkokennoille.
Mikroelektroninen pakkaus:Under -kumpun metallointi (UBM) ja siemenkerrokset vohveli-tason pakkaamiseen.
Kehittynyt T&K:Kvanttilaiterakenteet, suprajohdeohutkalvot ja magneettiset tunneliliitokset (MTJ).
Räätälöintiasetukset
Kammioasteikko:Laajennetut mitat 12 tuuman alustalle tai hansikaslokeron integrointiin.
Lähteen asetukset:Mukautetut upokkaan tilavuudet, RF-bias-virtalähteet ja ioni-avusteiset kerrostusmoduulit (IAD).
Automaatio:Kosketusnäytön reseptien hallinta tai täydellinen SECS/GEM-tehdasautomaation yhteensopivuus.
Laadunvalvonta
Vuototestaus:Heliummassaspektrometrin testaus kammiota kohti (< 1 x 10^-10 Pa*m^3/s threshold).
Mittatarkistukset:Lähteen CMM-tarkistus etäisyyksien ja laippojen toleransseista-
Sähkötestaus:Hei -Pot-testaus, maadoituksen jatkuvuuden tarkistukset ja EHS-tarkastukset kaikissa korkeajännitelinjoissa{1}}.
Asennus ja tuki
Tehdashyväksyntätestaus (FAT):-Peruspaineen, lähteen toiminnan ja automaattisen pyöräilyn tarkistukset toimipisteessämme ennen toimitusta.
Kenttäasennus:Paikan päällä tapahtuva mekaaninen kohdistus, käyttöliittymän vahvistus ja SAT (Site Acceptance Testing) -testaus.
Dokumentaatio:Täydellinen toimitus sisältää sähkökaaviot, P&ID-kaaviot, PLC-varmuuskopiot ja tehtaan testitodistukset.
FAQ
K: Voiko järjestelmä vaihtaa reaktiivisen sputteroinnin ja lämpöhaihdutuksen välillä yhdellä kertaa?
V: Kyllä. Pneumaattiset ikkunaluukut eristävät jokaisen lähteen, mikä mahdollistaa peräkkäisen suorituksen ilman tyhjiökeskeytystä.
K: Mitkä ovat laitoksen hyödyllisyysvaatimukset?
V: Vaatii 3-vaiheisen 380 V/480 V tehon, jäähdytysveden (18 ° C - 22 ° C 0,3 MPa), paineilman (0,5 - 0,7 MPa) ja rouhintapumpun pakoputken.
K: Miten metallilähteiden välinen ristikontaminaatio{0}}estetään?
V: Yksittäiset savupiiput, suuntalevyt ja fyysiset ikkunaluukut minimoivat materiaalin risti{0}}puheen useiden lähteiden aikana.
Suositut Tagit: pvd hybridi ohutkalvopinnoitusjärjestelmä, Kiina pvd hybridi ohutkalvopinnoitusjärjestelmän valmistajat, toimittajat, tehdas
